第72章 藤田健一郎的挑衅(2 / 3)

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  画面中,一个戴著金丝眼镜、头髮梳得一丝不苟的亚洲面孔的中年男子站在讲台上,身后的大屏幕上显示著复杂的数学公式和光刻机结构图。
  男子正用英语进行演讲,语速平稳,偶尔配合手势强调重点。
  “这是世界计算光刻大会的直播回放。”
  周宇轩咬牙切齿地解释道
  世界计算光刻大会(wclc),光刻计算领域的『世界锦標赛』,是光刻技术领域最具影响力的国际会议,相当於这个行业的“奥运会”。
  每年,全球顶尖的光刻专家、数学家、物理学家和工程师都会齐聚一堂,展示最新研究成果,探討技术前沿。
  能在wclc上做主旨演讲的,无一不是领域內的泰斗级人物。
  而光刻技术本身,则是晶片製造中最核心、最精密的环节。
  简单说,就是用光把电路图案“刻”到硅片上。
  图案越精细,晶片性能越强。
  目前最先进的euv(极紫外)光刻技术,已经能够实现5纳米甚至更小尺寸的晶片製造,而这背后需要极其复杂的数学建模和计算光学支持。
  对於正在全力突破晶片“卡脖子”技术的华国来说,光刻领域的每一个进步都牵动著无数人的心。
  华国科研团队每年都会派出顶尖学者参加wclc,学习交流最新成果,同时也展示自己的研究进展。
  周宇轩对电子產品特別关注,对这种世界前沿的会议更是不可能落下。
  “这个日本人叫佐藤健一郎。”
  周宇轩指著屏幕上的演讲者,声音里满是厌恶。
  “他是京都大学数学研究所教授,日本学术振兴会特別研究员。还是国际光学工程学会最高荣誉获得者,长期研究光刻数学理论,在国际上有一定的话语权。”
  屏幕上,佐藤健一郎的演讲已接近尾声。
  他推了推眼镜,切换到最后一张幻灯片,上面展示著一套结构优美、符號繁复的数学框架。
  “这就是他这次提出的『佐藤正则化框架』。”
  周宇轩低声说,他显然对这个领域已经做过研究了。
  “一套专门针对euv光刻误差修正的数学公式体系。他声称用这个框架,能够完美解决euv光刻中的各种像差和失真问题,让5纳米晶片的良率突破95%。”
  良率也就是纳米晶片生產的成功率。
  要知道,目前最先进的生產线,5纳米晶片的良率也就在80%左右徘徊。
  每提高一个百分点,都意味著数以亿计的成本节约。
  95%的良率,如果真能做到,这將是晶片製造业的革命性突破。
  之前日本媒体就发表过相关的报导,已经將佐藤健一郎捧上了天。
  视频切到了日媒的报导画面,標题赫然写著“晶片数学之神——佐藤教授的革命性突破”。
  “吹吧,就使劲吹。”
  林思源撇撇嘴,“日本人最喜欢搞这种个人崇拜了。” ↑返回顶部↑

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