第31章 学霸和学霸亦有差距(3 / 5)

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  直到翻到最后那一页的实验题。
  刚才李东只是粗略扫了一眼倒没觉得什么,现在仔细一读……
  “这题……”
  “这是把光刻机的核心难题给脱敏放出来了?”
  题目很长,占了整整一页纸。
  【某实验小组为探究投影光刻系统的分辨能力,搭建了简化光刻实验装置:採用波长为λ的单色平行光作为曝光光源,通过数值孔径为 na的投影物镜,將掩模上的精细图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面,实现晶片图案的转移。
  光刻系统的最小分辨线宽(可清晰区分的两条相邻线条的最小间距)遵循瑞利判据:
  δ= 0.61λ/na
  其中数值孔径 na = n?sinθ,n为物镜与晶圆之间介质的折射率,θ为物镜能接收的最大光线的半孔径角。
  完成下列问题:】
  这题一共三个问题,前两问可能成绩稍微好点的学生就能做出来,甚至都不用学霸。
  但是第三题,你说他难吧,確实有奥赛难度,但不是顶尖的那种。
  可是他的重点不是解出来,而是怎么解出来才最好。
  李东下意识的抬头看了看四周。
  此时距离考试结束还有四十分钟,大部分考生都还在抓耳挠腮地对付前面的计算题。
  他旁边的那个考生,看著年纪特別小,顶多也就是高一的样子,此刻正咬著笔桿,对著这最后一道题发呆,卷子上大片空白。
  “现在的小孩都这么卷了吗?高一就来参加这种比赛?”
  李东心里吐槽了一句,隨后收回目光,看向试卷。
  前面两问李东提笔就写。
  【1.求该光刻系统的最小分辨线宽δ?】
  解:由瑞利判据公式δ= 0.61λ/na,代入数据λ=436nm,na=0.35。
  δ?≈ 0.76μm。
  【2.写出两种工业界常规的技术方案,並简述物理原理。】
  这个阐述题,其实考的是学生的知识面,如果你整天读死书,那还真不一定知道。
  不过李东在啃大物的时候,就有了解过相关的知识了。
  他甚至还专门在网上找了新闻来看。
  一个是用缩短波长的方案,比如使用duv深紫外光之类的。
  原理也很简单,就是δ与λ成正比。
  另一个就是增大数值孔径了,比用如用浸没式光刻。
  原理则是利用水等介质提高折射率n,从而增大na。 ↑返回顶部↑

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