第440章 光波没有摩擦力(1 / 4)

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  四月中旬,吉省长光所。
  地下实验室的无尘室外,王老的团队已经连轴转了两天两夜。
  玻璃窗內,一组从樱花国弄回来的日產光学物镜被拆成了几十个编號部件。
  镜片、隔圈、压环、镀膜样片,全都铺在防静电垫上。
  每一个动作都慢得要命。
  因为这玩意儿不是普通镜头。
  它关係到光刻机能不能从现有水平,往1.5微米製程上再迈一步。
  林希站在玻璃窗外,看著里面的进度。
  这时,江俊拿著一份资料册快步走了过来。
  “林经理。”
  他的声音比三年前稳了太多。
  三年前,江俊站在林希面前时,背是塌的,手里攥著女儿的病歷。
  现在,他白大褂袖口卷到小臂,资料册夹在胳膊下,开口第一句就是工艺参数。
  “光刻机要升级到1.5微米製程,光有镜头不够。”
  江俊翻开工艺资料册,指著设计图上的对齐位。
  “1.5微米线宽,上下层对齐的套刻精度,最多只能容忍300纳米误差。”
  他手指敲了敲图纸。
  “也就是说,我们的尺子,得能量出几十纳米级別的微小位移。”
  江俊合上资料,语气很沉。
  “三年前搞出来的1微米精度光柵尺,已经不够用了。”
  林希点了点头。
  他很清楚,在1984年,测量工具的精度落后,就是卡死晶片製程的物理天堑。
  你连工作檯挪了多少都量不准,还谈什么套刻?
  晶片不是靠热血喊出来的。
  每一道线,都得用精度咬出来。
  “跟我来。”
  江俊没多解释,转身就走。
  林希跟著他推开走廊尽头一间独立实验室的门。
  屋里温度比外面低,墙角的除湿机一直在响。
  光学平台四周拉著黑色遮光帘,地面上连脚印都很少。 ↑返回顶部↑

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