131.第130章 感光芯片(2 / 3)

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  “有问题?”
  “问题很大好不好……”
  王浩文强烈怀疑,康驰到底懂不懂造芯片了……
  康驰只是笑着解释道:“我这次其实只是简单地走一遍流程,验证一下原理,哪怕造个只有一百像素的cmos都行,不需要那么复杂的步骤。”
  “一百像素?!”
  王浩文顿时就惊了。
  不过想到康驰刚开始搞芯片的时候,不正是发了个2d加速卡给他,想验证他所谓的‘原理’嘛。
  只能说,
  大神的研究方式,和尔等凡人不一样。
  当然,一百像素只是康驰夸张的说法,具体还是得根据这里的实际情况,尽量造出性能更好的感光芯片。
  虽然他暂时不缺升级用的通用经验,
  但能省就省,指不定什么时候就用得上。
  cmos感光芯片的结构和原理,其实比普通芯片都简单,技术难点主要还是体现在制造工艺和材料上。
  从设计上来说,感光芯片可以说是完全没有难度,是一个图纸重复率非常高的芯片类型。
  比如一块两千万像素的感光芯片,其实每个像素的芯片结构都是一样的。
  只要在硅片基底上,通过光刻,制造出一个个均匀排布的光电二极管,然后在这个二极管上通过蚀刻工艺,制造出彩色滤光片就行了。
  具体的工作原理,其实也不难。
  我们可以把彩色滤光片,想象成一个有四块方形玻璃的窗户,这四块玻璃的颜色分别是红、绿、蓝、绿,
  然后当外面的光透过这个玻璃,照射进屋子,布置在屋里的四个光电二极管,就能通过识别四个区域的光线强度,还原出照射进来的光线是什么颜色,亮度是多少。
  也就是说,一块两千万像素的cmos,就需要八千万个光电二极管和彩色滤光片,
  而且为了保证每个像素,吸收光线的光线条件是一样的,他们还只能平面排布在硅片上,不能像其它芯片一样,通过蚀刻堆叠成复杂的城市结构。
  这就是为什么感光芯片,想要做到高像素难度很大的原因。
  它实在是太吃制程了。
  如果用90纳米制程的光刻机来造光电二极管,因为一个像素2x2的原理,就相当于变成了180纳米的制程,
  而且因为只能平铺,在芯片尺寸限制的情况下,就只能减少像素点了。
  所以有些手机厂商,吹牛逼说自己的手机有一亿的像素,
  其实听听就好。
  想想也知道,就手机那么点大小的镜头,
  里面的cmos芯片,面积能有多大?
  哪怕用最先进的euv光刻机来造,里面的光电二极管,也绝对不可能达到四亿平铺的程度。 ↑返回顶部↑

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